等離子清洗機(jī)
產(chǎn)品介紹
等離子清洗機(jī)通過(guò)輝光放電產(chǎn)生的等離子體，其中的高能電子、離子、自由基等活性粒子能夠與污染物發(fā)生物理碰撞或化學(xué)反應(yīng)，將污染物分解為揮發(fā)性氣體（如 CO?、H?O 等），并通過(guò)真空泵排出，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)元件表面的高效清潔。
常壓：等離子表面處理機(jī)由等離子發(fā)生器，氣體輸送管 路及等離子噴頭等部分組成。等離子發(fā)生器產(chǎn)生高壓高頻能量在噴嘴鋼管中被激活 和被控制的輝光放電中產(chǎn)生低溫等離子體。等離子體中粒子能量一般約為幾個(gè)至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結(jié)合鍵能，完全可以破裂有機(jī)大分子的 化學(xué)鍵而形成新鍵，但遠(yuǎn)低于高能放射性射線，只涉及材 料表面，不影響基體的性能。處于非熱力學(xué)平衡狀態(tài)下的低溫等離子體中，電子具 有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學(xué)鍵，提高粒 子的化學(xué)反應(yīng)活性(大于熱等離子體),而中性粒子的溫度 接近室溫，這些優(yōu)點(diǎn)為熱敏性高分子聚合物表面改性提供 了適宜的條件。
低壓：等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容 器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定真空度。隨著氣體愈來(lái)愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由 運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，它們發(fā)生碰撞而形成 等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所 有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)。不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的 等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)，生成氣 體，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很 好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時(shí)會(huì)發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。
適用場(chǎng)景
光學(xué)行業(yè)：光學(xué)鏡片、鏡頭的油污及指紋去除，避免傳統(tǒng)清洗劃傷表面；
電子制造：PCB 電路板表面活化、去除助焊劑殘留，半導(dǎo)體芯片封裝前的精密清潔；
醫(yī)療器械：手術(shù)器械、植入體（如人工關(guān)節(jié)）的滅菌與表面改性，提升生物相容性；
汽車工業(yè)：汽車燈具、傳感器等部件的表面清潔與活化，增強(qiáng)涂層附著力；
新材料領(lǐng)域：高分子材料、復(fù)合材料的表面處理，改善其粘接、印刷性能；
包裝行業(yè)：塑料薄膜、金屬箔等包裝材料的表面活化，提升印刷或復(fù)合牢度
產(chǎn)品規(guī)格
| 設(shè)備型號(hào) | SF-XSL | SF-XSM |
設(shè)備尺寸 （mm）L*W*H | 1600mm*2100mm *1750mm | 800mm*1600mm *1700mm |
內(nèi)部腔體容積 | 200-2000L | 20-200L |
| 等離子輸出功率 | 0-20KW可調(diào) | 0-10KW可調(diào) |
| 電源工作頻率 | 40KHZ/13.56MHZ | 40KHZ/13.56MHZ |
| 放電真空度 | 30-500Mterr | 30-500Mterr |
| 設(shè)備重量 | 3000KG | 1500KG |
本設(shè)備可根據(jù)不同的產(chǎn)品規(guī)格、產(chǎn)能設(shè)計(jì)開發(fā)、生產(chǎn)制造。
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